[发明专利]聚砜系选择渗透性中空纤维膜组件及其制造方法有效
| 申请号： | 200580033924.0 | 申请日： | 2005-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN101035606A | 公开（公告）日： | 2007-09-12 |
| 发明（设计）人： | 横田英之;马渊公洋;门田典子;加藤典昭;畠山雄树;春原隆司;增田利明 | 申请（专利权）人： | 东洋纺织株式会社;尼普洛株式会社 |
| 主分类号： | B01D63/02 | 分类号： | B01D63/02;B01D71/38;A61M1/18;B01D71/68 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供中空纤维膜组件及其制造方法，所述中空纤维膜组件收容如下所述的聚砜系选择渗透性中空纤维膜而成，该聚砜系选择渗透性中空纤维膜是以聚砜系树脂和亲水性高分子为主要成分而成的聚砜系中空纤维膜，而且，(i)该中空纤维膜的内表面最表层中亲水性高分子的含有率，相对于内表面的表面附近层中亲水性高分子的含有率为1.1倍以上，(ii)该中空纤维膜的外表面最表层中亲水性高分子的含有率，相对于内表面最表层中亲水性高分子的含有率为1.1倍以上；该中空纤维膜组件及其制造方法的特征在于，(iii)在中空纤维膜的周边气氛的氧浓度为0.001％以上0.1％以下、在相对于中空纤维膜的自重的含水率为0.2质量％以上7质量％以下的状态下，该中空纤维膜组件被照射放射线。 | ||
| 搜索关键词： | 聚砜系 选择 渗透性 中空 纤维 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种中空纤维膜组件，其收容有如下所述的聚砜系选择渗透性中空纤维膜而成，所述聚砜系选择渗透性中空纤维膜是以聚砜系树脂和亲水性高分子为主要成分而成的聚砜系中空纤维膜，而且，(i)该中空纤维膜的内表面的最表层中亲水性高分子的含有率，相对于内表面的表面附近层中亲水性高分子的含有率为1.1倍以上，(ii)该中空纤维膜的外表面的最表层中亲水性高分子的含有率，相对于内表面的最表层中亲水性高分子的含有率为1.1倍以上；其中，(iii)在中空纤维膜的周边气氛的氧浓度为0.001％以上0.1％以下、相对于中空纤维膜的自重的含水率为0.2质量％以上7质量％以下的状态下，所述中空纤维膜组件被照射放射线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东洋纺织株式会社;尼普洛株式会社，未经东洋纺织株式会社;尼普洛株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580033924.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
