[发明专利]侧面发出辐射的器件和用于如此器件的透镜有效

专利信息
申请号: 200580030102.7 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101014894A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: M·万宁格 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08;H01L33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘春元;魏军
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 提供一种侧面发出辐射的器件,具有一个辐射源,其光轴垂直于器件的安装面延伸,并且具有一个在辐射源后面布置的光学设备,其中光学设备具有一个在截面上呈V形形成的反射表面和一个从外部看上去呈凸起形成的折射表面,其布置在反射表面和面对辐射源的底面之间,如此布置并形成底面,即通过该底面辐射源的电磁辐射耦合进入该光学设备,如此布置并形成反射表面,即耦合进入的辐射的中央第一部分从这里转向折射表面,如此布置并形成折射表面,即不仅来自反射表面的辐射而且直接来自辐射源的辐射在同时射束聚焦的情况下通过该折射表面从辐射源的光轴的侧面耦合出去。
搜索关键词: 侧面 发出 辐射 器件 用于 如此 透镜
【主权项】:
1.侧面发出辐射的器件,具有一个辐射源,该辐射源的光轴垂直于器件的安装面延伸,并且具有一个在辐射源后面布置的光学设备,其中-光学设备具有一个在截面上呈V形形成的反射表面和一个从外部看上去呈凸起形成的折射表面,所述折射表面布置在反射表面和面对辐射源的底面之间,-如此布置并形成底面,即通过该底面辐射源的电磁辐射耦合进入该光学设备,-如此布置并形成反射表面,即耦合进入的辐射的中央第一部分从这里转向折射表面,-如此布置并形成折射表面,即不仅来自反射表面的辐射而且直接来自辐射源的辐射在同时射束聚焦的情况下通过该折射表面从辐射源的光轴的侧面耦合出去。
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