[发明专利]用于磁记录介质的玻璃基底和磁记录介质有效
| 申请号： | 200580029272.3 | 申请日： | 2005-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN101010733A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | 羽根田和幸;会田克昭;町田裕之 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/73 | 分类号： | G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于磁记录介质的玻璃基底，具有位于基底表面(数据面)和基底外周端面(直面)之间的斜面，基底表面用于在其上形成包括磁性层的薄膜，其中外周斜面在径向上具有120或更小的突起值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 记录 介质 玻璃 基底 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁记录介质的玻璃基底，具有位于所述基底的表面(数据面)和所述基底的外周端面(直面)之间的斜(斜切)面，所述基底的表面在其上形成有包括磁性层的薄膜，其中所述外周斜面在径向上具有120或更小的突起值。
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