[发明专利]使光均匀化的装置及制造此装置的方法无效
| 申请号： | 200580028185.6 | 申请日： | 2005-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN101006365A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 维塔利杰·利索兹切科 | 申请（专利权）人： | 翰兹－利索兹切科专利管理有限公司及两合公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 用于制造一种使光均匀化的装置的方法，其中所述装置具有至少一个基板(1)，所述基板具有至少一个带有多个透镜元件(2)的光学功能面，其中在第一个方法步骤中透镜元件(2)被构造在至少一个基板(1)的至少一个光功能面中，其中在另一个方法步骤中，至少一个基板(1)被分解成至少两个部分(3，4，6，7，8，9)，并且在下一个方法步骤中至少一个基板(1)的至少两部分(3，4，6，7，8，9)中的至少两部分在至少一部分(4，7，9)改变取向的情况下被重新拼接起来。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.用于制造一种使光均匀化的装置的方法，其中所述装置具有至少一个基板(1)，所述基板具有至少一个带有多个透镜元件(2)的光学功能面，并且其中在第一个方法步骤中透镜元件(2)被构造在至少一个基板(1)的至少一个光学功能面中，其特征在于，在另一个方法步骤中至少一个基板(1)被分解成至少两个部分(3，4，6，7，8，9)，其中在接下来的方法步骤中所述至少一个基板(1)的至少两部分(3，4，6，7，8，9)中的至少两部分在至少一部分(4，7，9)改变取向的情况下被重新拼接起来。
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