[发明专利]光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案形成方法无效
| 申请号： | 200580025663.8 | 申请日： | 2005-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN101019075A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 石冢启太;远藤浩太郎;平野智之 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明在浸液曝光工艺中，能同时防止利用包括水在内的各种浸渍液的浸液曝光中的光刻胶膜的变质及所用的浸渍液的变质，且不会增加处理工序数，提高光刻胶膜的放置耐性，可形成利用浸液曝光的高分辨率的光刻胶图案。使用至少将可溶于碱的聚合物和交联剂及可溶解它们的溶剂作为构成成分的组合物在所使用的光刻胶膜表面上形成保护膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 保护膜 形成 用材 以及 使用 材料 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶保护膜形成用材料，用于形成光刻胶膜的上层保护膜，其特征在于，所述光刻胶保护膜形成用材料至少含有可溶于碱的聚合物成分、交联剂和溶剂。
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