[发明专利]方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量设备、倾斜偏移的校正方法、方位测量方法、方位传感器单元及便携式电子设备无效

专利信息
申请号: 200580024919.3 申请日: 2005-07-22
公开(公告)号: CN101023323A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: 佐藤秀树;山木清志;大村昌良;大须贺千寻;二桥聪之;马渊哲也 申请(专利权)人: 雅马哈株式会社
主分类号: G01C17/38 分类号: G01C17/38;G01R33/02
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种进行准确偏移的方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量单元及便携式电子设备。实现上述目的的方位处理设备是用于基于由方位传感器顺序输出的测量数据输出方位数据的方位处理设备,其具有:累积单元,其将实质上最新的所述测量数据选择性地累积;以及偏移数据更新单元,其基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据,更新所述方位传感器的偏移数据。
搜索关键词: 方位 处理 设备 方法 程序 测量 倾斜 偏移 校正 测量方法 传感器 单元 便携式 电子设备
【主权项】:
1.一种方位处理设备,用于基于从方位传感器顺序输出的测量数据来输出方位数据,其特征在于,包括:累积单元,用于选择性地累积实质上为最新的所述测量数据;以及偏移数据更新单元,用于基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据来更新所述方位传感器的偏移数据。
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