[发明专利]与磷光体一道用于电致发光显示器的氧化铝和氧氮化铝层有效
| 申请号： | 200580024819.0 | 申请日： | 2005-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1989223A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 辛永保;吉田功;乔·阿基奥内;浜田弘喜 | 申请（专利权）人： | 伊菲雷技术公司;三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | C09K11/77 | 分类号： | C09K11/77;H05B33/14;H05B33/22;C09K11/64;C09K11/78 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型层压物，用于改进交流电(ac)厚膜介电电致发光显示器中所用的硫代铝酸盐基磷光体的运行稳定性。该新结构包括稀土激活的碱土硫代铝酸盐磷光体薄膜层，以及与磷光体薄膜层底部直接邻接并接触的氧化铝或氧氮化铝层。本发明特别可应用于电致发光显示器中所用的磷光体，所述显示器采用经受高处理温度的厚介电层，以形成和激活磷光体膜。 | ||
| 搜索关键词： | 磷光体 一道 用于 电致发光 显示器 氧化铝 氮化 | ||
【主权项】：
1.一种用于厚介电膜电致发光器件的磷光体层压物，所述层压物包括：- 稀土激活的碱土硫代铝酸盐磷光体薄膜层；- 与所述磷光体薄膜层的底部直接邻接并接触的氧化铝或氧氮化铝层；和- 与所述氧化铝或氧氮化铝层邻接的厚膜介电层。
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