[发明专利]成像方法和装置有效
| 申请号： | 200580024159.6 | 申请日： | 2005-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN101147049A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 威廉·拉斯曼;戴维·拉林;罗伯特·A·里伯曼;罗萨·U·肯彭;赫伯特·沙皮罗 | 申请（专利权）人： | 专家技术公司 |
| 主分类号： | G01J4/00 | 分类号： | G01J4/00;G01N21/55;G01N33/53;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种成像方法和装置，包括发射偏振光束的光源，和包括控制层和/或光反射表面的光学组件。控制层有利地考虑控制渐逝波产生的特性，以优化在渐逝波内的标本阵列的图像。光反射表面包括有利地考虑在受体指定区域的灵活控制、用于连接受体/捕获剂的连接部分。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置，包括：发射偏振光束的光源；包括控制层和光反射表面的光学组件，其中所述光束通过控制层并且被光反射表面反射，以在光反射表面附近提供具有控制高度和强度的渐逝场，光反射表面适于在其上提供标本阵列，使得在渐逝场中的标本阵列导致在所述光束的横截面中的空间分布偏振变化；和检测器，设置为检测所述光束的空间分布偏振变化，以提供标本阵列的图像。
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