[发明专利]制造光敏性层压体的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200580022461.8 申请日: 2005-07-06
公开(公告)号: CN101014904A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: 末原和芳;秋好宽和;伊本贤一;森亮;铃木智明;杉原了一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/18 分类号: G03F7/18;B32B37/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种制造设备(20),具有第一和第二放出机构(32a、32b),第一和第二处理机构(36a、36b)、第一和第二储存机构(42a、42b)、第一和第二剥离机构(44a、44b)、基板供给机构(45)、和连接机构(46)。直接检测光敏性网膜(22a、22b)的边界位置的第一和第二检测机构(47a、47b)设置在连接机构(46)上游并靠近连接机构(46)。基于来自第一和第二检测机构(47a、47b)的检测到的信息,边界位置与在连接位置的基板(24)的相对位置以及边界位置自身的相对位置得到调整。
搜索关键词: 制造 光敏 层压 方法 设备
【主权项】:
1、一种制造光敏性层压体的设备,包括:至少两个网膜放出机构(32a、32b),所述网膜放出机构(32a、32b)用于同步地放出细长光敏性网膜(22a、22b),所述细长光敏性网膜(22a、22b)每一个包括支撑件(26)、设置在所述支撑件(26)上的光敏性材料层(28)、和设置在所述光敏性材料层(28)上的保护膜(30),所述保护膜(30)具有剥离部分(30aa)和剩余部分(30b);至少两个处理机构(36a、36b),所述至少两个处理机构(36a、36b)用于形成处理区域(34),所述处理区域(34)在已经由所述网膜放出机构(32a、32b)放出的细长光敏性网膜(22a、22b)的保护膜(30)内、在所述剥离部分(30aa)与所述剩余部分(30b)之间的相应边界位置能够被横向切断;至少两个剥离机构(44a、44b),所述至少两个剥离机构(44a、44b)用于将所述剥离部分(30aa)从所述细长光敏性网膜(22a、22b)中的每一个剥离,并留下所述剩余部分(30b);基板供给机构(45),所述基板供给机构(45)用于将已经被加热到预定温度的基板(24)供给到连接位置;连接机构(46),所述连接机构(46)用于将所述剩余部分(30b)定位在所述基板(24)之间,并将所述光敏性材料层(28)的、所述剥离部分(30aa)从它们被剥离的至少两个露出的区域,彼此平行地一体连接到处在所述连接位置的所述基板(24),以便生产出连接的基板(24a);至少两个检测机构(47a、47b),所述至少两个检测机构(47a、47b)靠近所述连接位置设置,用于直接检测所述细长光敏性网膜(22a、22b)的所述边界位置,或检测设置在所述细长光敏性网膜(22a、22b)上的、与所述边界位置相关联的标记;和控制机构(102),所述控制机构(102)基于由所述检测机构(47a、47b)检测到的边界位置信息,调整所述边界位置与处在所述连接位置的所述基板(24)的相对位置、和所述边界位置自身的相对位置。
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