[发明专利]喷墨头制造方法和通过该制造方法制造的喷墨头无效
| 申请号： | 200580019606.9 | 申请日： | 2005-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN1968816A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 冈野明彦;芝昭二;石仓宏惠 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造喷墨头的方法，包括：在具有能量产生元件的基板上形成光降解性正型光刻胶层，通过光降解性正型光刻胶层的曝光和显影而形成变成油墨流路的结构，将具有所述结构的基板涂以负型光刻胶层，在负型光刻胶层中形成排墨口，和通过去除所述结构而形成油墨流路，其中光降解性正型光刻胶层包括至少包含得自(甲基)丙烯酸酯的单元和进一步包含得自(甲基)丙烯酸的单元的丙烯酸共聚物组合物。丙烯酸共聚物组合物包含比例5至30％重量的(甲基)丙烯酸单元，丙烯酸共聚物的重均分子量是50000至300000。 | ||
| 搜索关键词： | 喷墨 制造 方法 通过 | ||
【主权项】：
1.一种制造喷墨头的方法，该喷墨头包括用于排出油墨液滴的排出口，与排出口连通的油墨流路，和用于从排出口排出油墨液滴的能量产生元件，所述用于制造喷墨头的方法包括：在具有能量产生元件的基板上形成光降解性正型光刻胶层；形成通过曝光和显影光降解性正型光刻胶层而变成油墨流路的结构；用负型光刻胶层涂覆具有变成油墨流路的结构的基板；在负型光刻胶层中形成排墨口；和通过去除变成油墨流路的结构而形成与排出口连通的油墨流路，其中光降解性正型光刻胶层包括丙烯酸共聚物组合物，该丙烯酸共聚物组合物包含至少得自(甲基)丙烯酸酯作为主组分的单元，还包含得自(甲基)丙烯酸的单元，所述丙烯酸共聚物组合物包含比例5至30％重量的(甲基)丙烯酸单元，丙烯酸共聚物的重均分子量是50000至300000。
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