[发明专利]数据处理方法、数据处理装置、掩模制造方法和掩模图案有效
| 申请号： | 200580018492.6 | 申请日： | 2005-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1964851A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 丸本义朋 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/01 | 分类号： | B41J2/01;B41J5/30;G06F3/12;G06F5/00;H04N1/405;H04N1/52 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在使用不同的多个颜色的墨水通过多次扫描完成图像的分割记录中使用的掩模，该掩模能够抑制记录中途的颗粒的产生，能够减轻颗粒化造成的画质恶化。在计算斥力势能的合计的各记录允许像素中，例如记录允许像素(Do)的斥力势能的合计最大的情况下，求出其移动前后的斥力势能的变化，使记录允许像素(Do)移动到在移动前后斥力势能的合计最低的像素处。通过循环进行这样的处理，能够降低各面全体的总能量，配置为在各面的掩模的重叠中，对于记录允许像素分布，其低频成分少并且良好地分散。 | ||
| 搜索关键词： | 数据处理 方法 装置 制造 图案 | ||
【主权项】：
1.一种掩模制造方法，是在生成用于通过多次的扫描分别记录多种点的图像数据时使用的掩模图案的制造方法中，其特征在于包括：决定与上述多种点对应的多个掩模图案各自的记录允许像素的配置的决定步骤，其中上述决定步骤包含：确定记录允许像素的配置，使得由上述多个掩模图案各自的记录允许像素的配置决定的低频成分在对应的多个掩模图案中同时减少的步骤。
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