[发明专利]校正两参数谱的方法无效
| 申请号： | 200580014092.8 | 申请日： | 2005-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1961220A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 纪尧姆·蒙特蒙 | 申请（专利权）人： | 核材料总公司 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨生平;杨红梅 |
| 地址： | 法国韦利济*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及信号处理领域，具体涉及X射线或伽马射线光谱测定法。本发明还涉及用于校正两参数谱的方法和改进的处理器件。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 参数 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理两参数谱的方法，包括：选择用于所述谱的谱图参数和初始校正函数；对于根据该参数选择的任何谱图，通过将该选择的谱图乘以等于已经校正谱图的至少一部分的总和的校正函数来进行至少校正操作。
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