[发明专利]图案形成方法无效
| 申请号： | 200580013937.1 | 申请日： | 2005-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1950753A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 高岛正伸;若田裕一;石川弘美;下山裕司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/027;G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种图案形成方法，包括：调制由激光源辐射出的激光束，补偿调制的激光束，和用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料依次包含载体、缓冲层和光敏层，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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