[发明专利]尤其适用于微系统技术领域，运用干涉测量和基于成像处理进行组合式几何检测的设备和方法

摘要

本发明设备包含一个至少具有两种测量模式的物镜。在第一种干涉模式中，对测量对象9进行干涉光学测量。在第二种成像处理模式中，则在类似摄像机构造的检测器阵列上生成测量对象的图像，并将其传输到图像处理程序中。通过对不同物镜照射方式的选择，以及在干涉仪的基准光路上安装相应元件，根据测量用光的不同光谱组成激活或休眠基准光路，可以实现两种测量模式之间的转换。这种测量方式之间的转换具有简单、快速的特点，不需要更换，甚至无需移动物镜。除了快速的优点外，通过干涉测量和成像处理两种方法获得的测量数据产生于同一个参照坐标系内，因此，互相之间具有良好的关联性。

主权项

1.一种在干涉测量模式中，通过干涉测量对测量对象(9)的高度值进行组合二维检测，以及在成像处理模式中，通过对测量对象的光学图像进行记录以及数字分析，实现对物体的横向几何特征进行测量的设备。该设备包括：物镜(5)，产生入射光的装置(1)和干涉仪，其特征在于：物镜(5)相对于电磁波光谱中的一部分而言，起到干涉物镜的作用，相对于电磁波光谱的另一部分，仅起到光学成像物镜的作用，在此情形，通过改变入射用光的光谱组成，可以将干涉测量模式转变为成像处理模式。