[发明专利]成像装置校准方法和成像装置校准仪表无效
| 申请号： | 200580012002.1 | 申请日： | 2005-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1943250A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | J·M·迪卡洛 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | H04N17/00 | 分类号： | H04N17/00;H04N1/60 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;王勇 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了成像装置校准方法、成像装置校准仪表、成像装置。按照一个实施例，成像装置校准方法包括：发射用于校准成像装置(14)的光；提供所述光的发射特性；利用成像装置(14)的图像传感器(46)检测所述光；产生表示利用图像传感器(46)的检测结果的传感器数据；以及利用所述产生的传感器数据和用于校准成像装置(14)的发射特性确定成像装置(14)的至少一种光学特性，其中所述至少一种光学特性对应于用来检测所述光的成像装置(14)。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 校准 方法 仪表 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置校准方法包括：发射用于校准成像装置(14)的光；提供所述光的发射特性；利用所述成像装置(14)的图像传感器(46)检测所述光；产生表示利用所述图像传感器(46)的检测结果的传感器数据；以及利用所述产生的传感器数据和所述发射特性确定用于校准所述成像装置(14)的所述成像装置(14)的至少一种光学特性；并且其中所述至少一种光学特性对应于用来检测所述光的所述成像装置(14)。
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