[发明专利]液基光学设备和电子设备有效
| 申请号： | 200580011357.9 | 申请日： | 2005-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1942804A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | S·凯帕;B·H·W·亨德里克斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/02 | 分类号： | G02B26/02;H05K9/00;H05F3/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 顾珊;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学设备，其包括封闭绝缘液体(A)和响应于电场的液体(B)的容器，所述绝缘液体(A)和所述响应于电场的液体(B)不混溶并且通过界面(14)彼此接触，所述液体(A；B)中的至少一个至少部分地被放置在通过所述容器的光路中。所述光学设备进一步包括借助于电压控制所述界面(14)的形状的电极布置(2；12)；和用于防止所述界面暴露于外部电场的装置(100)。因此，避免了静电电荷积累在光学设备的表面上，这防止了由于响应于电场的液体(B)和静电电荷之间的相互作用导致的界面(14)的部期望的变形。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种光学设备包括：封闭绝缘液体(A)和响应于电场的液体(B)的容器，所述绝缘液体(A)和所述响应于电场的液体(B)不混溶并且通过界面(14)彼此接触，所述液体(A；B)中的至少一个至少部分地被放置在通过所述容器的光路中；用于控制所述界面(14)取向的装置；和用于防止所述界面暴露于外部电场的装置(100，120，140)。
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