[发明专利]用于部件的等离子体清理的方法有效
| 申请号： | 200580006606.5 | 申请日： | 2005-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN1946489A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 厄休斯·克鲁格;拉尔夫·里奇;简·斯坦巴赫 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邵亚丽;李晓舒 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 按照现有技术裂纹很难净化并经常导致所要净化的部件的其他区域损坏。在按照本发明的方法中使用一种等离子体净化方法，在该方法中改变压强(p)和/或电极(10)与部件(1)之间的距离(d)，以实现在裂纹(4)内等离子体净化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 部件 等离子体 清理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于等离子体净化部件(1)的方法，其中，将部件(1)安置在具有用于产生等离子体(7)的电极(10)的腔室(13)内，以及遵守等离子体的确定参数(p、d)以保持存在等离子体(7)，其中，至少一个参数(p、d)是可改变的，其特征在于，对从部件(1)的表面(22)出发的裂纹(4)进行净化，其中，或者·在所述腔室(13)内保持恒定的压强(p)以及根据裂纹(4)的裂纹深度(t)改变所述电极(10)与所述表面(22)的距离(d)，或者·使用于产生等离子体(7)的电极(10)与所述部件(1)表面(22)的距离(d)保持恒定以及改变所述腔室(13)内的压强(p)，或者·既改变所述电极(10)与部件(1)表面(22)的距离，也改变腔室(13)内部的压强(p)，其中，所述距离(d)与压强(p)的乘积保持恒定。
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