[实用新型]一种平面磁控溅射装置无效
| 申请号： | 200520034807.3 | 申请日： | 2005-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN2818495Y | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 许生;许沭华 | 申请（专利权）人： | 深圳市豪威光电子设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人： | 彭家恩 |
| 地址： | 518054广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种平面磁控溅射装置，包括外圈磁铁、中间磁铁、导磁片、非导磁性固定体和底座，在外圈磁铁与中间磁铁之间分别设置有非导磁性固定体，各个非导磁性固定体上面分别固定有导磁片，所述外圈磁铁、中间磁铁和非导磁性固定体都固定在底座上，所述非导磁性固定体是PVC塑料固定体，所述外圈磁铁是U字形，进一步地，所述U字型外圈磁铁的弧形部分的宽度比其他部位的宽度大。本实用新型可使靶表面磁场均匀，提高靶材利用率，提高膜厚的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
1、一种平面磁控溅射装置，包括外圈磁铁和中间磁铁，其特征在于：所述外圈磁铁与中间磁铁之间分别固定有导磁片。
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