[发明专利]水平传感器、光刻设备以及器件制作方法无效
| 申请号： | 200510134128.8 | 申请日： | 2005-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1797213A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | A·J·A·布鲁恩斯马;F·斯塔尔斯;R·J·凡威杰克;S·尼蒂阿洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于光刻设备中确定衬底表面高度的水平传感器。该水平传感器包括发射器和接收器，其中该发射器布置成发射被导向衬底表面预定位置的信号，使得该信号被衬底至少部分反射以形成反射信号。接收器布置成接收至少部分反射信号，水平传感器布置成基于发射信号和接收信号而确定衬底表面相对于水平传感器的表面高度。该信号包括压力波。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 传感器 光刻 设备 以及 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备中确定衬底表面高度的水平传感器，该水平传感器包括：发射器，排列成发射信号，该信号被引导至衬底表面上的预定位置，使得该信号至少被衬底部分反射以形成反射信号；接收器，排列成接收至少部分反射信号；以及处理器，基于发射信号和接收信号而确定衬底表面相对于水平传感器的高度。
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