[发明专利]毛发化妆材料有效
| 申请号： | 200510093872.8 | 申请日： | 2005-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN1742701A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 多田路子;石井桂子;七里紫阳;岩濑珠实 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | A61K8/89 | 分类号： | A61K8/89;A61Q5/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种含有以下成分(A)～(C)、抗冲洗类型的毛发化妆材料及使用其处理毛发的毛发处理方法。具有：(A)有机二羧酸或其盐；(B)选自芳香族醇、N－烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、数均分子量100～1000的聚丙二醇、内酯及环酮的有机溶剂；(C)在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上，通过含有杂原子的亚烷基，结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N－酰基亚烷基亚胺)构成，且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N－酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为98/2～40/60、重均分子量为50,000～500,000的有机聚硅氧烷，式中，R1表示H、碳原子数1～22的烷基、环烷基、芳烷基或芳基，n表示2或3的数。 | ||
| 搜索关键词： | 毛发 化妆 材料 | ||
【主权项】：
1.一种抗冲洗类型的毛发化妆材料，其特征在于，含有以下成分(A)～(C)：(A)有机二羧酸或其盐；(B)选自芳香族醇、N-烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、数均分子量100～1000的聚丙二醇、内酯及环酮中的有机溶剂；(C)在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上，通过含有杂原子的亚烷基，结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N-酰基亚烷基亚胺)构成，且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N-酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为98/2～40/60、重均分子量为50,000～500,000的有机聚硅氧烷，![]()
式中，R1表示氢原子、碳原子数1～22的烷基、环烷基、芳烷基或芳基，n表示2或3的数；。
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