[发明专利]用于汽相淀积系统的衬底托架有效
申请号: | 200510092824.7 | 申请日: | 2005-08-22 |
公开(公告)号: | CN1737191A | 公开(公告)日: | 2006-02-22 |
发明(设计)人: | 理查德·I.·塞登 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C16/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于磁锁闩的部分地可用完即弃的衬底托架,以将衬底固定在行星式旋转平台上,所述行星式旋转平台悬挂在汽相淀积系统的真空腔中的涂料源上方,如化学汽相淀积(CVD)系统或物理汽相淀积(PVD)系统。所述衬底托架包括可以再度使用的底座和用完即弃的盖,所述底座至少部分地用铁磁材料形成并被吸引到所述磁锁闩,所述盖由相对便宜的铁磁性易于形成的材料形成、促使涂层材料的附着并具有在涂覆温度下的低汽相压力。 | ||
搜索关键词: | 用于 汽相淀积 系统 衬底 托架 | ||
【主权项】:
1.一种用于安装在涂膜系统的处理腔中的衬底支撑,包括:至少一个心轴,所述心轴可围绕各自心轴的轴旋转;位于每个心轴的一端上的锁闩,所述锁闩包括安装表面;和用于安装在所述锁闩的安装表面上的可松开的衬底托架,所述衬底托架包括底座和安装在所述底座的一个端面上的用于支撑衬底的盖;其中所述盖包括暴露所述衬底的开口、包围所述开口以将所述衬底的边缘保持在所述底座的唇边,和覆盖所述底座的端面以保护所述底座不受杂散涂层材料的影响的保护区域;其中所述盖用片状金属制成;和其中所述盖可松开地附着于所述底座,从而可以从所述底座中移去。
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