[发明专利]光刻设备和制造器件的方法无效
| 申请号： | 200510091792.9 | 申请日： | 2005-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN1737688A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | J·J·M·巴塞曼斯;A·J·布里克;P·W·H·德贾格;K·Z·特鲁斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种单个可控元件阵列，包括由多行反射器组成的多个控制区。以相同的方式激励交替行的反射器，以便控制区用作光栅，以提供可以用作衍射光学元件的控制元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：提供辐射束的照明系统；构图所述束的反射器阵列，每个反射器都具有定位反射器的相关激励器，且反射器阵列具有多个控制区，每个控制区都包括一行或多行反射器；向激励器提供控制信号的控制器，以便将在多个控制区的每一个中的一行或多行反射器的交替反射器行设置为第一公共位置，并将在多个控制区中剩余的一行或多行反射器设置为第二公共位置；以及投影系统，将构图的束投影到基板的目标部分上。
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