[发明专利]采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法和系统无效
| 申请号： | 200510086827.X | 申请日： | 2005-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN1752847A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 张锦;冯伯儒;宗德蓉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/33;G02B27/60 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法和系统，其特征在于只使用一个声光偏转器，使从激光器发出的激光束发生偏转，当声光偏转器未加超声功率时，激光束直接透过声光偏转器，为掩模提供垂直照明；当声光偏转器水平方向加上一定频率的超声功率时，则在X方向产生偏转角正比于超声频率的一级衍射光，为水平方向偏置曝光提供照明，当声光偏转器垂直方向上加上超声功率时，则为垂直方向偏置曝光提供照明。通过改变超声功率可方便调节一级衍射光强度，易于实现不用衰减滤光片的曝光强度控制和不同空间频率成份曝光剂量控制，通过改变超声波频率可实时控制偏转角大小，可灵活、方便、快捷地实现成像干涉光刻所需的三次曝光，提高曝光效率和抗蚀剂图形质量。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 一个 声光 偏转 成像 干涉 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法，其特征在于：(1)在成像干涉光刻系统中的激光器和全反射镜之间加一个声光偏转器；(2)当声光偏转器未加超声驱动电压功率时，从激光器发出的激光束直接透过声光偏转器为掩模提供垂直照明光束，实现低频分量曝光；(3)当声光偏转器水平方向上加上超声驱动电压时，其一级衍射光在水平面内与光轴偏离一个角度，为掩模提供水平面内偏置照明，实现X方向偏置曝光；(4)当声光偏转器垂直方向上加上超声驱动电压时，其一级衍射在垂直面内与光轴偏离一个角度，为掩模提供垂直面内偏置照明，实现Y方向偏置曝光，完成成像干涉光刻所需的三次曝光。
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