[发明专利]应用框架的开发方法使用的上位框架无效
申请号: | 200510076363.4 | 申请日: | 2003-03-07 |
公开(公告)号: | CN1696897A | 公开(公告)日: | 2005-11-16 |
发明(设计)人: | 细谷竜一 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G06F9/44 | 分类号: | G06F9/44 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 吴丽丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供可容易且有效地开发适合于开发应用软件的高品质的框架(framework)的、利用上位框架的应用框架的开发方法。首先,准备上述具有对象间构造机构(11)、处理执行机构(12)、功能扩展机构(13)、错误处理机构(14)、事件通知机构(15)、登录机构(16)、可视化机构(17)和配置机构(18)的上位框架(1)。接着,框架开发者根据成为开发对象的框架(20)的设计方针等,通过将上位框架(1)的对象间构造机构(11)、处理执行机构(12)、功能扩展机构(13)、错误处理机构(14)、事件通知机构(15)、登录机构(16)、可视化机构(17)和配置机构(18)中包含的对象直接或以对其边扩展边组合的方式来定义构件,作成框架(20)。 | ||
搜索关键词: | 应用 框架 开发 方法 使用 上位 | ||
【主权项】:
1.一种作成应用框架的上位框架,其特征在于包括:具有用于将对象间构造规定为图形构造的类构造的对象间构造机构;具有用于进行对象间移动和进行对象的处理执行的类构造的处理执行机构,通过将上述上位框架的上述对象间构造机构和上述处理执行机构中包含的对象直接地或以边对其扩展边组合的方式来定义构件、并作成应用框架的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510076363.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:内燃机用点火时期控制装置
- 下一篇:硅晶片以及用于制造硅晶片的方法