[发明专利]制造薄膜的方法和装置有效
| 申请号： | 200510069756.2 | 申请日： | 2005-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1695919A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 山崎英数;伊藤晃寿;高桥操 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B29C39/14 | 分类号： | B29C39/14;B29C39/44;B29C39/26;//B29L7∶00;B29K1∶00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱进桂 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种浇铸模，将含有TAC的涂料浇铸在带上，用于在干燥过程之后制造薄膜。具有边缘校正通道的边缘校正装置连接在浇铸模的主体的两侧。部分涂料作为边缘校正涂料供给到边缘校正通道中，而剩余涂料作为主涂料供给到歧管中。调节主涂料的厚度以控制薄膜的厚度。在由涂料形成的铸型薄膜中，两个边缘部分比中间部分厚，由此增加了边缘部分和铸型薄膜的强度。因此在铸型薄膜从带上剥离时，剥离缺陷减少。切断边缘部分以获得薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 薄膜 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种薄膜制造方法，包括以下步骤：(A)形成初级薄膜；(B)切断所述初级薄膜的两个侧部，以便获得切割薄膜，所述两个侧部都满足以下条件：0.1cm≤W≤10cm65μm≤T1≤T1m≤T2其中W是所述每个侧部的宽度(cm)；T1是两个所述侧部的平均厚度(μm)；T1m是所述两个侧部的最大厚度(μm)；T2是2.0×T0(μm)和130μm中的较大值；T0是所述切割薄膜的厚度。
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