[发明专利]ND滤光片和孔径光圈设备有效

专利信息
申请号: 200510068897.2 申请日: 2005-05-13
公开(公告)号: CN1696813A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 国井弘毅;迎和俊 申请(专利权)人: 日本电产科宝株式会社
主分类号: G03B11/00 分类号: G03B11/00;G03B9/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 李玲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种ND滤光片是由具有平面的透明基片所制成。光学薄膜形成在透明基片的平面上。光学薄膜具有一种包括光吸收薄膜和介质薄膜的层叠结构,并且具有可变的传输密度。层叠结构中的光吸收薄膜或介质薄膜中的任一种薄膜厚度可以透明基片的共面方向变化,使得光学薄膜层叠的传输密度可加以控制,以便于在共面方向上变化。光吸收薄膜所包括的材料选自Ti、Cr、Ni、NiCr、NiFe、NiTi、及其混合物,而介质薄膜可以由SiO2、Al3O2或及其化合物所制成。
搜索关键词: nd 滤光 孔径 光圈 设备
【主权项】:
1.一种ND滤光片,其特征在于,包括:具有平面的透明基片;和,在透明基片平面上形成的光学薄膜,具有层叠结构的光学薄膜包括光吸收薄膜层和介质薄膜层,并且具有可变的传输密度;其中,层叠结构中的光吸收薄膜或介质薄膜中的至少一层的厚度在透明基片的共面方向上改变,使得光学薄膜层叠的传输密度是可以控制的,以便于在共面方向上变化。
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