[发明专利]成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法有效
| 申请号： | 200510068542.3 | 申请日： | 2005-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1678034A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 白石贤二 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;G03B7/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 黄小临;王志森 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成像设备，其实现了高速自动聚焦操作并减少了功耗，以及防止由于错误测定引起的误聚焦。该成像设备具有自动聚焦功能，其检测聚焦透镜的当前位置。在被检测的聚焦透镜的当前位置附近的有限范围被指定为聚焦范围。聚焦透镜的可移动范围根据被指定的聚焦范围而改变。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 聚焦 方法 控制 | ||
【主权项】：
1.一种具有自动聚焦功能的成像设备，包括：聚焦透镜位置检测装置，用于检测聚焦透镜的当前位置；其特征在于：聚焦范围指定装置，用于指定位于聚焦透镜的当前位置附近的有限范围作为聚焦范围，其中聚焦透镜的当前位置由所述聚焦透镜位置检测装置检测；以及聚焦透镜可移动范围改变装置，用于根据聚焦范围改变聚焦透镜的可移动范围，其中该聚焦范围由所述聚焦范围指定装置指定。
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