[发明专利]磁记录介质和磁记录设备无效
| 申请号： | 200510059290.8 | 申请日： | 2005-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1674101A | 公开（公告）日： | 2005-09-28 |
| 发明（设计）人： | 前田知幸;喜喜津哲;及川壮一;岩崎刚之 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/738 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李春晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及磁记录介质和磁记录设备。在衬底上形成一个大粒径底层，其包括选自Cu、Ni或者Rh中的至少一种，具有大于或等于50nm的较大的平均直径的晶粒，(100)晶面的取向平行于衬底表面。然后，在该底层上淀积磁记录层。带有这种结构的磁记录介质在磁性层中表现出了非常小的磁性晶粒，在高纪录密度下具有优良的重写性能和信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，包括：衬底；形成在衬底上的大粒径底层；在该底层上的磁记录层；以及形成在该磁记录层上的保护层；其中，所述大粒径底层包括选自基本上由Cu、Ni、Rh和Pt构成的组中的至少一种的晶粒，平均粒径dc为dc＞＝50nm，晶粒的(100)晶面取向平行于衬底表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510059290.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
