[发明专利]沉浸式石印流体无效

专利信息
申请号: 200510054221.8 申请日: 2005-01-21
公开(公告)号: CN1648773A 公开(公告)日: 2005-08-03
发明(设计)人: 张鹏;B·M·布德赫拉尔;G·E·帕里斯;L·C·巴伯 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温宏艳;王景朝
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了可以添加到沉浸流体中的合适添加剂,包含选自水流体、非水流体和其混合物的至少一种载体介质的沉浸流体,和包含至少一种载体介质和至少一种添加剂的沉浸流体,该至少一种添加剂在140nm到365nm的工作波长下可用于进行沉浸式石印。
搜索关键词: 沉浸 石印 流体
【主权项】:
1、一种沉浸流体,其包含:约1ppm到最大溶解度极限的至少一种选自下列的添加剂:烷基醇;烷基乙氧基化物、烷基丙氧基化物、及其衍生物;烷基酸酯;包含胺基的烷基胺;烷基胺乙氧基化物;炔属醇、炔属二醇、及其环氧乙烷/环氧丙烷衍生物;烷基聚糖苷;嵌段低聚物;环氧乙烷和环氧丙烷的聚合物;缩水甘油醚;缩水甘油醚的葡糖胺衍生物;脲;含硅氧烷化合物;氟代或者部分氟代的炔属醇、二醇及其衍生物;含氟表面活性剂;离子性液体;盐;和电解质,条件是如果至少一种添加剂是含氟表面活性剂,则沉浸流体包含约1重量%或以上的水流体。
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