[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200510053040.3 | 申请日： | 2005-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN1664704A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | J·斯特斯马;P·W·H·德贾格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种与用以将来自辐射系统的辐射分配到两个或多个独立可控单元阵列的辐射分配系统一同使用的探测器、反馈及补偿系统，各独立可控单元阵列用来使射束图案化，该射束之后被投射到基片上。该探测器确定该辐射分配系统内的辐射损失，并将信息反馈到补偿系统，该补偿系统补偿该损失并保持投射到基片上的辐射均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，其中包括：提供射束的辐射系统；将基片固定的基片台；用以按照所要求图案使来自所述辐射系统的射束图案化的多个图案形成器；将图案化射束投射到所述基片的目标部分的投射系统；将来自所述辐射系统的辐射分配到所述图案形成器的辐射分配器；若干辐射分配通道；以及测量与各所述图案形成器关联的辐射的强度的辐射检测系统，其中，所述辐射分配器将来自所述辐射系统的辐射导引到多个所述辐射分配通道，这些辐射分配通道将所述射束提供给所述图案形成器。
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