[发明专利]一株还原碱性介质中高浓度六价铬的细菌及其培养方法有效

专利信息
申请号: 200510031337.X 申请日: 2005-03-17
公开(公告)号: CN1834226A 公开(公告)日: 2006-09-20
发明(设计)人: 柴立元;龙腾发;彭兵;何德文;闵小波;王云燕 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20
代理公司: 中南大学专利中心 代理人: 龚灿凡
地址: 410083*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一株还原碱性介质中高浓度六价铬的细菌及其培养方法。该菌株为无色细菌,属杆状菌CGMCC1260(Achromobacter sp.),保藏命名为Ch-1。本发明采用氮源和碳源作培养基;培养条件:温度25℃~35℃,pH 7~11,Cr(VI)浓度1~2000mg/L,好氧或兼氧。本发明弥补了目前细菌不能还原碱性介质中Cr(VI)的不足,并将还原Cr(VI)的能力提高到2g/L以上;细菌培养方法及培养基成分简单,易于大规模培养;可直接用于处理铬盐厂、化工厂等pH值在7~11范围内的碱性含铬废水、铬渣渗滤液。
搜索关键词: 还原 碱性 介质 中高 浓度 六价铬 细菌 及其 培养 方法
【主权项】:
1.一株还原碱性介质中高浓度六价铬的细菌,其特征在于:菌株为无色细菌,属杆状菌CGMCC1260(Achromobacter sp.),大小为1.2-3μm×0.5-0.8μm,周身鞭毛,属革兰氏阴性,兼性好氧,保藏命名为Ch-1。
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