[发明专利]紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法无效
申请号: | 200510031024.4 | 申请日: | 2005-10-21 |
公开(公告)号: | CN1752272A | 公开(公告)日: | 2006-03-29 |
发明(设计)人: | 方明;洪瑞金;贺洪波;易葵;邵建达 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/58 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法,采用磁控溅射方法制备,其步骤包括:用99.99%或纯度更高的金属锌掺入光谱纯的金属镉作为阴极的溅射锌靶,阳极和真空室相连,将溅射锌靶焊接到紫铜底板上;将清洗后的基底装在基底夹具上,活动挡板置于所述的基底夹具与所述的溅射锌靶之间;关好各气阀后抽真空,直至真空度达3×10-3Pa以上;通入氩气和氧气后,真空度范围为0.1Pa~0.5Pa;溅射电源功率选择范围为100W~500W,开直流电源起辉预溅射5~10分钟;旋转所述的基底夹具,移开活动挡板,开始沉积薄膜,直至达到所需的薄膜厚度。实验证明用本发明方法所镀制的氧化锌薄膜的紫光发射增强,其他可见区的发光受到抑制。 | ||
搜索关键词: | 紫光 发射 增强 氧化锌 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种紫光发射增强的氧化锌薄膜的制备方法,采用磁控溅射方法制备,其特征在于:用99.99%或纯度更高的金属锌掺入光谱纯的金属镉作为阴极的溅射锌靶,阳极和真空室相连,将溅射锌靶焊接到紫铜底板上;将清洗后的基底装在基底夹具上,活动挡板置于所述的基底夹具与所述的溅射锌靶之间;关好各气阀后抽真空,直至真空度达3×10-3Pa以上;通入氩气和氧气后,真空度范围为0.1Pa~0.5Pa;溅射电源功率选择范围为100W~500W,开直流电源起辉预溅射5~10分钟;旋转所述的基底夹具,移开活动挡板,开始沉积薄膜,直至达到所需的薄膜厚度。
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