[发明专利]掺Nd3+的氧化镧钇激光陶瓷的制备方法无效
申请号: | 200510025859.9 | 申请日: | 2005-05-17 |
公开(公告)号: | CN1699281A | 公开(公告)日: | 2005-11-23 |
发明(设计)人: | 杨秋红 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B35/622;C04B35/63 |
代理公司: | 上海上大专利事务所 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种掺Nd3+的氧化镧钇激光陶瓷的制备方法,属特种稀土激光陶瓷制造工艺技术领域。本发明一种掺Nd3+的氧化镧钇激光陶瓷的制备方法,其特征是具有以下工艺过程和步骤:采用市售高纯原料Y2O3、La2O3和Nd2O3,三者的质量配比按化学分子式(Y0.85La0.15-yNdy) 2O3为依据,式中的y=0.5mol%,或1.0mol%,或5.0mol%;将上述配合料放置于高速球磨机内,加入蒸馏水,混合研磨24小时,干燥后再在1000~1300℃下预烧5小时;再放入球磨机中球磨24小时,然后加入PVA粘结剂进行造粒,随后在200MPa冷等静压下压制块片;然后800℃下烧掉PVA粘结剂,最后放入钼丝炉中在还原气氛下于1400~1550℃进行烧结8-10小时,最终获得致密透明的Nd:Y2-2xLa2xO3激光陶瓷,实现了Nd在氧化镧钇激光陶瓷中的高掺杂。 | ||
搜索关键词: | nd sup 氧化 激光 陶瓷 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掺Nd3+的氧化镧钇激光陶瓷的制备方法,其特征是具有以下的工艺过程和步骤:a.采用市售高纯的99.99%的Y2O3、99.95%的La2O3和99.95%的Nd2O3为原料,三者的质量配比按化学分子式(Y0.85La0.15-yNdy)2O3为依据,式中的y=0.5mol%,或1.0mol%,或5.0mol%;b.将上述配合料放置于高速球磨机内,加入蒸馏水,进行混合研磨,球磨时间为24小时,;出料后,在150℃温度下烘干;c.然后放置于煅烧炉中于1000~1300℃温度下预烧5小时;再放入球磨机中球磨24小时;d.经150℃温度烘干后,加入5wt%的PVA聚乙烯醇粘结剂进行造粒;然后将粉粒在200MPa的冷等静压下压制成块片;e.然后在800℃温度下于空气中烧掉PVA粘结剂;最后放入钼丝炉中在还原气氛下于1400~1550℃进行烧结,烧结时间为8-10小时,最终获得致密透明的Nd:Y2-2xLa2xO3激光陶瓷。
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