[发明专利]光刻装置和校准方法有效
| 申请号： | 200480041978.7 | 申请日： | 2004-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1918516A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | L·M·勒法斯尔;A·J·A·布鲁恩斯马;J·F·F·克林克哈默;G·J·尼梅杰;P·A·M·德克斯－罗格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 可使用具有至少一个对准标记和至少一个高度剖线图的校准板，来执行根据本发明的一个实施例的方法。首先，使用对准传感器来定位校准板。然后通过高度传感器来测量高度剖线图。然后，将校准板旋转达大致180度并重复这两个操作。该程序产生了两个测量的高度剖线图，将它们进行比较以找到最佳拟合。用于找到最佳拟合的移位量被用来确定对准标记与高度传感器测量点的X，Y位置之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 校准 方法 | ||
【主权项】：
1.一种校准方法，所述方法包括：将校准板的标记移动至对准位置；使用高度传感器来测量所述校准板的第一高度剖线图；在所述移动标记和所述使用高度传感器来测量第一高度剖线图之后，旋转所述校准板达大致180度；在所述旋转之后，再次移动所述标记至所述对准位置；在所述旋转之后，使用所述高度传感器来测量所述校准板的第二高度剖线图；和基于所述第一高度剖线图和第二高度剖线图，来确定所述高度传感器的测量点相对于所述对准位置的位置。
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