[发明专利]在CVD金刚石中引入标记的方法有效
| 申请号： | 200480041431.7 | 申请日： | 2004-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN1914126A | 公开（公告）日： | 2007-02-14 |
| 发明（设计）人： | D·J·特维切;G·A·斯卡布鲁克;P·M·马蒂诺;P·M·斯皮尔 | 申请（专利权）人： | 六号元素有限公司 |
| 主分类号： | C03B29/04 | 分类号： | C03B29/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 在CVD单晶金刚石材料中引入起源标记如商标或指印的方法，包括以下步骤：提供金刚石基材，提供源气体，离解该源气体因此实施同质外延金刚石生长，和以控制方式将掺杂剂引入到源气体中以便在该合成金刚石材料中产生起源标记或指印。选择掺杂剂以使得该起源标记或指印不容易检测到或在正常观察条件下不影响金刚石材料的所察觉质量，但是该起源标记或指印在特殊的观察条件下是可检测或致使可检测的，例如当暴露于规定波长的光或辐射时。起源标记或指印的检测可以是目视检测或使用例如特定的光学仪器设备的检测。 | ||
| 搜索关键词： | cvd 金刚石 引入 标记 方法 | ||
【主权项】：
1.在CVD单晶金刚石材料中引入起源标记或指印的方法，该方法包括以下步骤：提供金刚石基材，提供源气体，离解该源气体因此实施同质外延金刚石生长，和以控制的方式将一种或多种化学掺杂剂引入到该合成过程中以便在合成金刚石材料中形成起源标记或指印，选择该掺杂剂以便该起源标记或指印在正常观察条件下是不易检测的或不影响该金刚石材料的感觉到的质量，但是该起源标记或指印在特定观察条件下是可检测的或致使可检测的。
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