[发明专利]用于蚀刻终点检测的方法和设备有效
| 申请号： | 200480038289.0 | 申请日： | 2004-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1898547A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | B·K·麦米林;F·C·达萨帕 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/00 | 分类号： | G01N21/00;G01J3/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;梁永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一般地说，本发明提供了一种用于监测等离子体光辐射的手段。具体地说，本发明提供了通过可变开口监测等离子体光辐射来检测出等离子体蚀刻工序终点的方法，该方法不具有可能导致伪终点呼叫的扰动。该方法包括通过由可移动构件界定的开口从等离子体收集光辐射数据。上述可移动构件能改变上述开口的配置。该方法还在特定时间内将上述可移动构件保持在固定状态。该方法还包含在将上述可移动构件保持固定的同时检测等离子体光辐射中的特定扰动之操作。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 终点 检测 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种监测等离子体光辐射的方法，包括：通过可移动构件界定的开口收集等离子体的光辐射数据，其中，所述可移动构件能改变所述开口的配置；在特定时间将可移动构件保持固定，其中，所述保持固定使所述开口维持固定的配置状态；以及在将可移动构件保持固定的同时，检测等离子体光辐射中的特定扰动。
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