[发明专利]用于去除光敏树脂的稀释剂组合物有效
| 申请号： | 200480015004.1 | 申请日： | 2004-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1799007A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 尹锡壹;全雨植;朴熙珍 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 南霆;朱梅 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于去除在半导体装置或液晶显示装置的制造过程中被使用的光致抗蚀剂的稀释剂组合物，并且更具体地涉及一种包括a)丙二醇单烷基醚；b)烷基乙酸酯；和c)环酮的稀释剂组合物。本发明的稀释剂组合物可以进一步包括选自包括d)基于聚环氧乙烷的表面活性剂和e)氟化丙烯酸共聚物的组的至少一种化合物。本发明的用于去除光致抗蚀剂的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除粘在制造液晶显示装置或有机EL显示装置中使用的玻璃衬底或晶片的边缘和背面的不需要的光致抗蚀剂，减小界面处的间隙，并且特别地，防止渗透到光致抗蚀剂的界面中。所以，该稀释剂组合物可以用于多种方法中以提供经济上的利益，简化制造工艺，并且提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光敏 树脂 稀释剂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种用于去除光致抗蚀剂的稀释剂组合物，包括a)丙二醇单烷基醚；b)烷基乙酸酯；和c)环酮。
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