[发明专利]光学膜、其制造方法及使用这种光学膜的图像显示装置有效

专利信息
申请号: 200480010029.2 申请日: 2004-04-28
公开(公告)号: CN1774654A 公开(公告)日: 2006-05-17
发明(设计)人: 村上奈穗;西小路祐一;吉见裕之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363;C08J7/04;B29C55/02;B05D7/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种光学膜,其包括基材和双折射层的层叠,并且在基材和双折射层之间的粘合性方面是优异的。通过如下方法在基材上形成双折射层:在基材上涂覆双折射层的材料,从而形成涂覆膜;拉伸/收缩基材,从而拉伸/收缩涂覆膜;并且固体涂覆膜材料。所述材料事先分散或溶解在溶剂中,并且以溶液形式涂覆,其中溶剂对基材表现出溶解性,并且在涂覆步骤中,溶剂渗入基材内部分中,从而获得基材和双折射层之间粘合性优异的光学膜。
搜索关键词: 光学 制造 方法 使用 这种 图像 显示装置
【主权项】:
1.一种制造包括基材和双折射层的光学膜的方法,该方法包括:在所述基材上涂覆所述双折射层的形成材料以形成涂覆膜的步骤;以及固化所述基材上的涂覆膜以形成所述双折射层的步骤,其中在所述涂覆步骤中涂覆在所述基材上的形成材料是通过将所述材料分散或溶解在溶剂中来制备为涂覆溶液,且所用溶剂对所述基材表现出溶解性。
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