[发明专利]反应器无效

专利信息
申请号: 200480007774.1 申请日: 2004-01-22
公开(公告)号: CN1764498A 公开(公告)日: 2006-04-26
发明(设计)人: 大卫·L·哈根;加里·金特尔;比尔·戈欣;艾伦·麦圭尔;珍妮特·兰金;道格·查尔斯·费特斯 申请(专利权)人: 瓦斯特能量系统有限公司
主分类号: B01J10/00 分类号: B01J10/00;B01J12/00;F23K5/04;F23L7/00;F23N1/00;F23N3/00;F23N5/00;F23R3/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 王达佐;韩克飞
地址: 美国印*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及热稀释的放热反应器系统,其含有众多孔(80),这些孔通过分布式的开孔接触器管道或输送管(10)分布在燃烧器内。所述开孔接触器将稀释剂流体(907)和一种或多种反应物流体(901)与氧化剂流体(904)混合并输送。所述开孔管道周围众多的微型喷嘴输送、混合并控制反应物流体、氧化剂流体和稀释剂流体的组分。所述反应器在轴向和一个或两个横向方向之中的一个或多个方向控制组分分布、组分比例分布和温度分布中的一个或多个,降低温度梯度并改善功率、效率和排放。
搜索关键词: 反应器
【主权项】:
1.反应器,其用来使至少包含第一反应物的第一流体和包含第二反应物的第二流体反应,并且将第一流体、第二流体以及所述第一流体与第二流体的反应产物中的一个或多个部分与稀释剂流体混合以构成反应产物,所述反应器包括:输送管,该输送管具有轴向方向及与该轴向方向相互区别的第一和第二横向方向,所述第一和第二横向方向限定了经过轴上位置的平面,该平面在所述输送管内表面以内的面积限定了所述输送管在所述轴位置的横截面积;反应物分布部分,该部分包括至少一具有内表面和外表面、及多个从所述内表面延伸到所述外表面的反应物分布孔的反应物管状部分,所述内表面限定了所述第一流体的第一流动路径,且所述的多个反应物分布孔的密度分布为单位输送管截面积上的局部平均孔空间密度,且所述反应物分布孔具有与至少一个所述横向方向有关的尺寸分布;稀释剂分布部分,该部分包括至少一具有内表面和外表面、及多个从所述内表面延伸到所述外表面的稀释剂孔的稀释剂管状部分,所述内表面限定了所述稀释剂的第一稀释剂流动路径,且所述的多个稀释剂孔具有与至少一个所述横向方向有关的密度分布和尺寸分布;反应物输送系统,该系统用于向所述反应物分布部分供应所述第一流体;第二流体输送系统,该系统用于向所述输送管供应至少部分所述第二流体,其中所述的输送管限定了所述第二流体的第二流动路径;稀释剂输送系统,该系统用于向所述稀释剂分布部分供应至少部分所述稀释剂;控制器,该控制器用于控制所述第一流体,所述第二流体和所述稀释剂流体向所述反应器的输送;以及其中,对所述稀释剂孔和所述反应物孔的与至少一个所述横向方向有关的密度分布和尺寸分布进行配置,使得能够在靠近所述反应器出口的输送管横截面内的至少一个横向方向控制所述反应产物的组分分布、温度分布、压力分布和速度分布中的至少一种分布,所述输送管横截面的方向与所述输送管轴成横向关系。
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