[发明专利]以LIGA工艺制造聚合物微针阵列的方法无效
| 申请号： | 200480002378.X | 申请日： | 2004-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1738710A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | 李承燮;文祥俊 | 申请（专利权）人： | 李承燮 |
| 主分类号： | B29D31/00 | 分类号： | B29D31/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨青 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及以X射线工艺制造微针阵列的方法。本发明提供了微针阵列的制造方法，包含的步骤为：通过在基片上生成具有微针阵列构造的吸收器，制备X射线掩膜；采用X射线掩膜，通过将PMMA曝光于垂直和倾斜的X射线，制备用于微针阵列的PMMA铸型；通过将PDMS浇注于PMMA铸型上，制备具有与PMMA相反构造的柔性PDMS模具；以凝胶型聚合物填充PDMS模具的上表面，得到期望厚度的聚合物；通过在聚合物上辐照紫外线，将具有期望构造的孔穴图案代；以及分离PDMS模具，完成聚合物微针阵列。本发明的微针阵列由聚合物材料制成，可用于从皮肤抽取血液或将药物注射入皮肤。 | ||
| 搜索关键词： | liga 工艺 制造 聚合物 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1.微针阵列的制造方法，包含如下步骤：通过在基片上生成具有微针阵列构造的吸收器，制备X射线掩膜；采用X射线掩膜，通过将PMMA曝光于垂直和倾斜的X射线，制备用于微针阵列的PMMA铸型；通过将PDMS浇注于PMMA铸型上，制备具有与PMMA相反构造的柔性PDMS模具；以凝胶型聚合物填充PDMS模具的上表面，得到期望厚度的聚合物；通过在聚合物上辐照紫外线，将具有期望构造的孔穴图案化；和分离PDMS模具，完成聚合物微针阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于李承燮，未经李承燮许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480002378.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
