[实用新型]多点均衡滚珠定位装置无效
| 申请号： | 200420009694.7 | 申请日： | 2004-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN2785788Y | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 臧建国 | 申请（专利权）人： | 北京三阔科技有限公司 |
| 主分类号： | B23Q16/04 | 分类号： | B23Q16/04 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张若华 |
| 地址： | 100176北京市经济*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及的多点均衡滚珠定位装置，它包括有定位盘和定位支架，在定位盘和定位支架的两个相对的平面上分别设有定位凹坑，所述定位盘和定位支架上的定位凹坑按角度均匀分布，定位盘与定位支架上的定位凹坑分布相一致，所述定位盘上定位凹坑的深度和定位支架上定位凹坑的深度各自相一致，并且在定位盘或者定位支架的两者之一上的全部定位凹坑中固定设有直径大小一样的定位滚珠；所述定位盘上和定位支架上设置的定位凹坑为向内凹的半圆球形；由于采用了本设计方案，使定位接触由原来的鼠牙齿相接触而变为球面接触，不但提高了定位精度，而且大大提高了工作刚度，增加了耐冲击性，降低了制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 多点 均衡 滚珠 定位 装置 | ||
【主权项】：
1.一种多点均衡滚珠定位装置，它包括有定位盘和定位支架，其特征在于：在定位盘和定位支架的两个相对的平面上分别设有定位凹坑，所述定位盘和定位支架上的定位凹坑按角度均匀分布，定位盘与定位支架上的定位凹坑分布相一致，所述定位盘上定位凹坑的深度和定位支架上定位凹坑的深度各自相一致，并且在定位盘或者定位支架的两者之一上的全部定位凹坑中固定设有直径大小一样的定位滚珠。
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