[发明专利]图案化膜层及等离子显示器之障壁的形成方法无效
| 申请号： | 200410102429.8 | 申请日： | 2004-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1797659A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 林俊良 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J9/24 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈星 |
| 地址： | 台湾省台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种图案化膜层的形成方法，此方法先进行网版印刷工艺，以于材料层上形成多个第一图案。接着图案化这些第一图案，以形成具有多个第二图案的图案化膜层。此方法可减少图案化工艺中所耗损的材料量，以便于节省工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 化膜层 等离子 显示器 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子显示器之障壁的形成方法，适于在基板上形成障壁，该障壁包括多个第二障壁图案，且该基板上已形成有多个寻址电极以及覆盖上述这些寻址电极之介电层，其特征在于该等离子显示器之障壁的形成方法包括：进行网板印刷工艺，以于该介电层上形成多个第一障壁图案；于该障壁图案上形成图案化光阻层，其中该图案化光阻层暴露出每一上述这些第一障壁图案之部分；以该图案化光阻层为掩膜而蚀刻上述这些第一障壁图案暴露出之部分，以于该介电层上形成该障壁，其中该障壁暴露出对应于上述这些寻址电极之部分该介电层；以及移除该图案化光阻层。
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