[发明专利]光扫描设备和使用该光扫描设备的成像装置有效

专利信息
申请号: 200410101126.4 申请日: 2001-05-25
公开(公告)号: CN1624519A 公开(公告)日: 2005-06-08
发明(设计)人: 石原圭一郎 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G03G15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光扫描设备,包括:入射光学装置,用于将从光源装置发射的光束入射到偏转装置;以及扫描光学装置,用于将从偏转装置反射和偏转的光束成像到待扫描表面,其特征在于:所述扫描光学装置在所述偏转装置一侧具有一第一透镜,在所述待扫描表面一侧具有一第二透镜,所述第一和第二透镜每个都包括一个复曲面透镜,其两面都具有复曲面;所述第一透镜在副扫描方向具有负光焦度,所述第二透镜在副扫描方向具有正光焦度,以及所述第一透镜和第二透镜位于相对于从所述偏转装置的偏转面到待扫描表面之间距离的中点更靠近所述偏转装置的位置。
搜索关键词: 扫描 设备 使用 成像 装置
【主权项】:
1.一种光扫描设备,包括:入射光学装置,用于将从光源装置发射的光束入射到偏转装置;以及扫描光学装置,用于将从偏转装置反射和偏转的光束成像到待扫描表面,其特征在于:所述扫描光学装置在所述偏转装置一侧具有一第一透镜,在所述待扫描表面一侧具有一第二透镜,所述第一和第二透镜每个都包括一个复曲面透镜,其两面都具有复曲面;所述第一透镜在副扫描方向具有负光焦度,所述第二透镜在副扫描方向具有正光焦度,以及所述第一透镜和第二透镜位于相对于从所述偏转装置的偏转面到待扫描表面之间距离的中点更靠近所述偏转装置的位置。
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