[发明专利]曝光装置

摘要

提供一种为防止在副扫描方向的曝光位置偏差，以进行高分辨率曝光的曝光装置。当以与副扫描方向相同方向在发光时间t多行阴极线顺次点灯时，事先考虑阴极线的移动量及移动方向，即曝光装置的副扫描方向的移动量及移动方向，设定各发光部的副扫描方向间距T为用(m－1/n)P表示的值。其中P为曝光装置的间距、m为2以上整数、n为阴极线数。当间距T设定为(m一1/n)P时，即使第二阴极线点灯也能曝光给定像素位置，从而能防止由于曝光位置偏差而造成的分辨率降低。

主权项

1、一种曝光装置，其特征在于，具有：发光元件阵列，让多个发光元件在副扫描方向相对于感光材料排列，由多个各自可独立驱动控制的发光元件沿与所述副扫描方向交叉的主扫描方向排列配置形成的元件行，在所述副扫描方向上排列配置多行而成；驱动控制单元，驱动控制各个所述发光元件，以分时顺次点亮在所述副扫描方向上排列配置的多行元件行；当以与副扫描方向相同方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(1)表示的间距排列配置，并且当以与副扫描方向相反方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(2)表示的间距排列配置；T＝(m-1/n)P (1)T＝(m+1/n)P (2)式中，P为曝光像素间距，m为2以上的整数，n为在副扫描方向上排列配置的发光元件行数。