[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410094716.9 | 申请日： | 2004-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1617048A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | P·R·巴特拉;W·J·博西;J·J·库伊特;C·C·M·鲁伊坦;B·A·J·鲁迪克休伊斯;M·坦布霍梅;F·米格彻布林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供的光刻装置包括用于保持基底W的基底台WT，用于将带图案的光束投射至基底W的目标部分之上的投影系统PL，以及用于提供参考表面的隔离参考框架MF，相对于该参考框架测量基底W，其中，参考框架MF包括具有高热膨胀系数的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其包括：-用于提供辐射投射光束的照明系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于对投射光束在其截面中赋予图案；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；以及用于提供参考面的隔离的参考框架，相对于该参考面测量所述基底；其特征在于所述参考框架包括具有高热膨胀系数的材料。
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