[发明专利]真空过滤装置的清洗方法及真空过滤装置有效
| 申请号： | 200410092593.5 | 申请日： | 2004-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN1751770A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 本间友基 | 申请（专利权）人： | 月岛机械株式会社 |
| 主分类号： | B01D33/04 | 分类号： | B01D33/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘建 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空过滤装置的清洗方法及真空过滤装置，该真空过滤装置的清洗方法，根据真空托盘(16A～16E)中的真空管路(20)的真空压，向真空托盘内供给托盘清洗液，使其浸渍在该真空托盘内，来清洗真空托盘。因此，能够按适当的定时顺利去除沉积附着在滤布或网板上的结晶，而可确实防止孔眼堵塞或滤液流动空间的闭塞。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 过滤 装置 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空过滤装置的清洗方法，是在能大致水平移动地设在装置本体上的滤布的下方设置介由真空管路而与真空吸引装置连结的真空托盘，利用上述真空托盘介由上述滤布真空吸引供给到该滤布上的料浆，从而进行过滤的真空过滤装置的清洗方法，其特征在于：根据上述真空管路的真空压，向上述真空托盘内供给托盘清洗液，使托盘清洗液浸渍在该真空托盘内，来清洗该真空托盘。
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