[发明专利]一种磁性靶向缓释型卡托普利及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200410090817.9 申请日: 2004-11-15
公开(公告)号: CN1775209A 公开(公告)日: 2006-05-24
发明(设计)人: 段雪;张慧;孙辉 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: A61K31/401 分类号: A61K31/401;A61K31/555;A61K9/00;A61P9/12;A61P9/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 何俊玲
地址: 100029北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种磁性靶向缓释型卡托普利及其制备方法。本发明以尖晶石型铁氧体及四氧化三铁为磁性物种,阴离子层状材料LDHs为主体,卡托普利为插层客体,通过自组装实现了Cpl-LDHs/MP的结构设计。该磁性卡托普利缓释剂为壳核型结构,即在磁性纳米颗粒外包覆层状材料Cpl-LDHs,比饱和磁化强度为1.0-6.0emu/g,其颗粒粒度分布在20-200nm。该磁性缓释剂中卡托普利质量百分含量为10-50%;缓释持效期可达到0.4h-13h。
搜索关键词: 一种 磁性 靶向 缓释型 卡托普利 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种磁性靶向缓释型卡托普利,其化学式为:(M2+)1-x(M3+)x(OH)2(Cpl-)a(Cpl2-)b(Bn-)c·mH2O/(MP)y 其中M2+是二价金属离子Zn2+、Mg2+、Ni2+、Cu2+、Fe2+、Co2+、Ca2+、Mn2+中的任何一种;M3+是三价金属离子Al3+、Fe3+、Cr3+、V3+、Co3+、Ga3+、Ti3+中的任何一种;Cpl-、Cpl2-分别代表层间一价、二价卡托普利阴离子;Bn-为荷电量为n的无机阴离子,Bn-可以不存在或为CO32-、NO3-、Cl-、Br-、I-、OH-、H2PO4-中的任何一种;0.1<X<0.8;a、b、c分别为Cpl-、Cpl2-、Bn-的数量,且a+2×b+n×c=X;m为结晶水数量,0.01<m<4;MP代表磁性物质MgFe2O4、NiFe2O4、CoFe2O4、ZnFe2O4、MnFe2O4或Fe3O4中的任何一种;y为MP的数量,0.001<y<1;该磁性缓释剂的比饱和磁化强度为1.0-6.0emu/g,粒度分布在20-200nm,磁性缓释剂中卡托普利质量百分含量为10-50%;缓释持效期是0.4-13h。
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