[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410090370.5 | 申请日： | 2004-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN1614511A | 公开（公告）日： | 2005-05-11 |
| 发明（设计）人： | J·J·奥坦斯;S·N·L·唐德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，其包括：用于提供辐射投射光束的照明系统；物品支架，其用于在所述物品支架上支撑放置于所述辐射投射光束的光束路径中的扁平物品，该物品支架包括多个支撑突起，所述多个突起限定用于提供支架的平面的支撑区域；以及回填气馈送口，其包括设置在所述支撑区域中的回填气体排放区，用于在所述物品由所述物品支架支撑时将回填气体馈送到所述物品的后部，用以在所述物品和所述物品支架之间提供改进的热传导。根据本发明，所述回填气体排放区基本上围住所述支撑区域。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其包括：-照明系统，其用于提供辐射的投射光束；-物品支架，其用于在所述物品支架上支撑放置于所述辐射投射光束的射束路径中的扁平物品，该物品支架包括多个支撑突起，所述多个突起限定用于提供支架的平面的支撑区域；以及-回填气馈送口，其包括设置在所述支撑区域中的回填气体排放区，用于在所述物品由所述物品支架支撑时将回填气体馈送到所述物品的后部，用以在所述物品和所述物品支架之间提供改进的热传导；其特征在于-所述回填气体排放区基本上围住所述支撑区域。
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