[发明专利]一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法无效

专利信息
申请号: 200410084794.0 申请日: 2004-12-01
公开(公告)号: CN1616948A 公开(公告)日: 2005-05-18
发明(设计)人: 王少伟;陆卫;陈平平;李宁;张波;李志锋;陈效双 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G06F19/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法,该发明是基于F-P干涉原理进行设计的,即在两片完全相同的窄带通高反膜系之间夹一真空层或空气层作为谐振腔,构成一个品质因子非常高的超窄带通滤光片,利用带通位置处的透过率对谐振腔的吸收特别敏感的特性,只要将待测样品放在谐振腔内,谐振腔内会有微弱吸收,就会引起透过率发生明显的变化,通过透过率的变化及利用商用的膜系设计与计算软件Filmstar绘制的峰值透过率差值(ΔT)随消光系数(κ)变化的标准曲线,就可以推算出待测光学材料的消光系数,进而得出其吸收系数。
搜索关键词: 一种 用于 光学材料 微弱 吸收 测量 设备 方法
【主权项】:
1.一种用于光学材料微弱吸收测量的设备,包括:激光光源(1)、将光源分成两束相同强度入射光的分束片(2)、反射镜(3)和F-P谐振腔(4),接收透射信号的探测器(5、6),其特征在于;所说的F-P谐振腔(4)的前腔镜(401)为窄带通反射膜片,并固定不可移动;后腔镜有二片(402、403),并排放置,也为窄带通反射膜片,并可移动,可分别调节谐振腔的腔距;前腔镜(401)的一部分区域与后腔镜(402)构成F-P参考谐振腔(41),中间为真空层。前腔镜(401)的另一部分区域与后腔镜(403)构成F-P测量谐振腔(42),待测样品(7)放在前腔镜(401)和后腔镜(403)之间;所述的窄带通反射膜片的膜系为(LH)a,其中L为低折射率膜层,H为高折射率膜层,其光学厚度为λ/4,λ为入射光波长;a为高低折射率膜层交替叠层的次数;激光光源(1)经分束片(2)分成二束光,一束为参考光束c1,另一束为测量光束c2;参考光束c1经反射镜(3)反射后90°转弯射入F-P参考谐振腔(41),其透射信号由探测器(5)接受;测量光束c2射入放有待测样品(7)的F-P测量谐振腔(42),其透射信号由探测器(6)接受。
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