[发明专利]光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件

摘要

一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；基底保持器包括多个突起，该突起限定了一种突起结构，这种结构用于为支撑基本上平的基底而提供基本上平的支架平面，该基底保持器包括用于产生电场的至少一个夹紧电极，通过所述电场将基底夹靠在基底保持器上；基底保持器进一步包括设置为接触基底的外围支撑边缘；以及用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统。根据本发明，所述至少一个基底伸出所述外围支撑边缘。

主权项

1.一种光刻投影装置，包括：-用于提供辐射投射光束的辐射系统；以及-用于支撑基底的基底保持器，该基底置于所述投射光束的光路中，基底保持器包括多个突起，该突起限定了一种突起结构，这种结构用于为支撑基本上平的基底而提供基本上平的支架平面，该基底保持器包括用于产生电场的至少一个夹紧电极，用于通过所述电场将基底夹靠在基底保持器上；基底保持器进一步包括设置为接触基底的外围支撑边缘；其特征在于-所述至少一个电极伸出所述外围支撑边缘，用于提供使基底边缘附近的基底平坦的扭矩载荷。